据介绍，首批重大科技专项为：一是钒钛稀土重大科技专项；二是轨道交通重大科技专项；三是集成电路与新型显示重大科技专项。
其中，集成电路与新型显示重大科技专项围绕集成电路、新型显示两大领域，布局14项重大攻关任务，着力研发15个重大创新产品，突破36项关键核心技术。新型显示支持方向和重点如下：
全面屏柔性AMOLED显示技术研究
（1）研究内容。面向柔性AMOLED全面屏超高屏占比、无开口屏下摄像功能等需求，开展柔性AMOLED面板多种像素密度混合驱动设计、研制工艺和测试技术研究；研究摄像头对应区域高像素密度、高MDL透过率、高亮度和高寿命显示等关键技术，相关指标满足产业化要求。
（2）考核指标。突破关键技术3项，申请或授权发明专利3件以上，形成全面屏产品2~3个。技术成果应用于新一代屏下摄像手机，形成真正意义上的全面屏。
（3）有关说明。拟支持1项，支持专项资金不超过1000万元；企业牵头申报，鼓励产学研联合申报，自筹经费与申请专项资金比例不低于2：1。
高画质低功耗可折叠柔性AMOLED显示技术研究
（1）研究内容。开展柔性AMOLED超薄堆叠结构仿真与设计，降低功耗的同时不影响显示画质；研究开发超薄可弯折高折射率材料，满足厚度需求与信赖性测试标准；开展弯折堆叠设计研究，通过优化堆叠设计，避免EES结构与现有堆叠发生分层、断裂等。研发可折叠柔性AMOLED显示产品，其弯曲半径、功耗、显示MDL反射率和厚度、常温动态弯折、温湿度条件动态弯折等技术指标性能优异。
（2）考核指标。突破关键技术3项，申请或授权发明专利3件以上，形成产品2-3个。技术成果应用于高分辨率超薄柔性折叠终端屏，支持大尺寸柔性显示终端制造。
（3）有关说明。拟支持1项，支持专项资金不超过1000万元；企业牵头申报，鼓励产学研联合申报，自筹经费与申请专项资金比例不低于2：1。
8K激光移轴变焦投影关键技术研究
（1）研究内容。开展基于振镜组合DLP芯片的方案设计，缩小光学系统体积；研究移轴镜头技术，实现影像位置电动调整；突破镜头自动调焦技术，解决调整后不同位置画质和解析度变差的问题；突破振镜自动相机优化技术，实现振镜参数最优化，确保像质最佳。研发高解析、高亮度、高色域8K激光移轴长焦投影显示产品。
（2）考核指标。突破关键技术3项，申请或授权发明专利3件以上，形成产品2~3个。技术成果应用于激光投影显示生产企业，并实现批量化生产。
（3）有关说明。拟支持1项，支持专项资金不超过560万元；企业牵头申报，鼓励产学研联合申报，自筹经费与申请专项资金比例不低于2：1。
超低散斑激光显示光学屏技术研究
（1）研究内容。研究激光显示中复合散斑的自相关特性和功率谱分布，建立复合散斑模型和实验方法，突破光学屏领域散斑抑制技术；建立光学屏融合架构的光学仿真、光利用效率的评价体系和测试方法，为行业提供更高效评价标准，促进行业技术升级；研究基于微纳结构的表面光整形技术，突破现有光扩散技术的能量利用极限，提升屏幕的光利用效率，实现光机小型化、节能化的环保需求；开展基于粒子的光散射、吸收和辐射模型研究，实现更优异的光散射分布，达到超清与均匀画质的视觉效果。
（2）考核指标。突破关键技术3项，申请或授权发明专利3件以上，制定行业标准1项，形成产品2~3个。大尺寸高分辨率激光投影显示屏产品在家用环境、影院环境等场景取得良好应用示范效果。
（3）有关说明。拟支持1项，支持专项资金不超过560万元；企业牵头申报，鼓励产学研联合申报，自筹经费与申请专项资金比例不低于2：1。
高世代产线用高精度掩膜版技术研究
（1）研究内容。开展掩膜版涂布技术研究，掌握G6及以上产线高精度光阻涂布技术，实现该尺寸领域光阻涂布技术自主化；开展高精度激光直写技术研究，掌握高PPI图形Mura控制技术、多图形混版Mura控制技术；开展图形精度测量及校正技术研究，掌握高精度DCM补偿技术；开展高精度缺陷修复技术研究，掌握高PPI图形、复杂图形修复技术。
（2）考核指标。突破关键技术3项，申请或授权发明专利3件以上，形成产品2-3个，研究成果应用于G6及以上高精度二元及半色调掩膜版的生产制造。
（3）有关说明。拟支持1项，支持专项资金不超过560万元；企业牵头申报，鼓励产学研联合申报，自筹经费与申请专项资金比例不低于2：1。
AMOLED用磷光发光材料国产化关键技术研究
（1）研究内容。开展OLED发光材料有机分子发光过程激发态调控、分子设计、发光器件优化等方面研究，完成OLED有机发光材料红、绿、蓝发光和主体材料结构研制并满足工业应用，形成具有完全自主知识产权的有机磷光发光材料的国产化供应。
（2）考核指标。突破关键技术3项，申请或授权发明专利3件以上，形成产品2~3个，发光材料应用于OLED生产厂家。
（3）有关说明。拟支持1项，支持专项资金不超过760万元；企业牵头申报，鼓励产学研联合申报，自筹经费与申请专项资金比例不低于2：1。
大幅宽PMMA偏光片基膜关键技术研究
（1）研究内容。开展大宽幅PMMA基膜制备关键技术研究，掌握光学树脂共挤技术和共挤特种配方，克服PMMA材料脆性缺陷导致的边部破膜问题；掌握宽幅双向同步光学拉伸技术，在2.5米大宽幅、超薄、超高运行机速情形下，位相差等光学性能均一。
（2）考核指标。研制具有低透湿性、高透过率、位相差均一的大宽幅偏光片基膜，突破关键技术3项，申请或授权发明专利3件以上，形成产品2~3个，产品支撑新型显示光学薄膜核心膜材国产化制备。在大宽幅偏光片生产厂家取得应用。
（3）有关说明。拟支持1项，支持专项资金不超过560万元；企业牵头申报，鼓励产学研联合申报，自筹经费与申请专项资金比例不低于2：1。（来源：四川省科学技术厅）
